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詳細信息
絕緣子灰密對污閃電壓的影響
(發(fā)布日期:2011-1-7 10:09:47) 來源:
ρ
NSDD 與污閃電壓Uf 的關系
在
ρ
ESDD 分別為0. 026 mg/ cm2、0. 068 mg/ cm2及0. 14 mg/ cm2 時試驗研究了XP - 160 懸式瓷絕緣子
Uf
隨
ρ
NSDD 變化的關系, 試驗結果如表3 , 試驗得到的
Uf
標準偏差在7 %之內(nèi)。對表3 的試驗結果進行曲線擬合, 可得到同一
ρ
ESDD下
Uf
與
ρ
NSDD 的關系, 如圖3 所示。
圖3 可知, 不同
ρ
ESDD 下7 片串人工污穢絕緣子串的
Uf
均隨著
ρ
NSDD 增加而下降; 并且
ρ
NSDD 較小時, 隨
ρ
NSDD 的增加
Uf
下降較快, 隨著
ρ
NSDD 的繼續(xù)增加,
Uf
下降趨勢變緩, 這種趨勢與絕緣子串閃絡電壓和
ρ
ESDD 之間的關系一致。對表3 或圖3 試驗結果數(shù)據(jù)組進行分析和曲線擬合可知,
Uf
隨
ρ
NSDD 增加而下降的趨勢也滿足冪函數(shù)規(guī)律, 即:
Uf
=
B
ρ
-
b
NSDD ( 2)式中:
B
為與絕緣子形狀和污穢程度等有關的系數(shù);
b
為表征絕緣子串閃絡電壓隨
ρ
NSDD 變化而改變的特征指數(shù)。
武漢鴻志高測電氣技術有限公司
所在區(qū)域:
湖北.武漢
郵編:
740070
公司地址:
武漢市東湖新技術開發(fā)區(qū)光谷大道303號光谷芯中心D4-02-403
聯(lián)系人:
姚建軍
先生 (市場部經(jīng)理)
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