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絕緣子灰密對污閃電壓的影響 
(發(fā)布日期:2011-1-7 10:09:47) 來源:
 
   

ρNSDD 與污閃電壓Uf 的關系

ρESDD 分別為0. 026 mg/ cm2、0. 068 mg/ cm2及0. 14 mg/ cm2 時試驗研究了XP - 160 懸式瓷絕緣子Uf ρNSDD 變化的關系, 試驗結果如表3 , 試驗得到的Uf 標準偏差在7 %之內(nèi)。對表3 的試驗結果進行曲線擬合, 可得到同一ρESDD下Uf ρNSDD 的關系, 如圖3 所示。
 
圖3 可知, 不同ρESDD 下7 片串人工污穢絕緣子串的Uf 均隨著ρNSDD 增加而下降; 并且ρNSDD 較小時, 隨ρNSDD 的增加Uf 下降較快, 隨著ρNSDD 的繼續(xù)增加, Uf 下降趨勢變緩, 這種趨勢與絕緣子串閃絡電壓和ρESDD 之間的關系一致。對表3 或圖3 試驗結果數(shù)據(jù)組進行分析和曲線擬合可知, Uf ρNSDD 增加而下降的趨勢也滿足冪函數(shù)規(guī)律, 即:Uf = Bρ- bNSDD ( 2)式中: B 為與絕緣子形狀和污穢程度等有關的系數(shù); b 為表征絕緣子串閃絡電壓隨ρNSDD 變化而改變的特征指數(shù)。
 
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